反光鏡納米粒子形貌觀察

觀察反光鏡納米粒子形貌可借助多種技術手段。掃描電鏡放大倍率與分辨率高、景深大等特點，能清晰呈現納米粒子形貌；透射電子顯微鏡可提供直觀的粒徑和形貌信息；原子力顯微鏡擅長觀察納米粒子的三維形貌與表面細節。這些技術各有優勢與局限，掃描電鏡樣品制備簡單但可能存在電荷積累問題，透射電鏡制樣復雜，原子力顯微鏡觀察范圍有限。它們為納米粒子形貌觀察提供了多樣選擇。

掃描電鏡通過發射電子束掃描樣品表面，利用背散射電子和二次電子成像，能清晰展現納米粒子的二維形態，其放大倍率可從幾倍到幾十萬倍，分辨率可達納米級別，大景深讓凹凸不平的納米粒子表面都能清晰成像。不過，在掃描過程中，樣品可能會積累電荷，影響成像質量。

透射電子顯微鏡則是讓電子束穿透樣品來成像，可提供納米粒子的內部結構、粒徑大小和形貌等直觀信息。它能觀察到納米尺度的微小結構，分辨率極高。然而，其制樣過程較為復雜，需要將樣品制成很薄的切片，以保證電子束能順利穿透。

原子力顯微鏡的獨特之處在于基于原子間相互作用力來檢測樣品表面形貌。工作時，微懸臂一端固定，另一端針尖與樣品表面輕觸，通過控制原子間微弱排斥力恒定，使微懸臂隨作用力等位面起伏，再利用光學檢測法測得微懸臂位置變化，進而獲取樣品表面形貌信息。它能呈現納米粒子的三維形貌和表面細節，但觀察范圍相對有限，且數據統計性不足。

此外，還有寬視場光學成像技術，通過散射光的偏振各向異性測量來恢復單個納米粒子的長寬比和取向，單次偏振旋渦強度映射方法可對大量納米顆粒進行表征。

總之，多種技術手段為反光鏡納米粒子形貌觀察提供了全面的視角。不同技術在實際應用中相互補充，科研人員可根據具體需求和樣品特點，靈活選擇合適的方法，以深入了解反光鏡納米粒子的形貌特征，推動相關領域的研究與發展 。

（圖/文/攝：太平洋汽車 整理于互聯網）